雨宫琴音快播 匠心独具的佳能，会“打败”ASML吗？

导语：佳能押注于更苟简低价的期间雨宫琴音快播，试图禁闭 ASML 的把持，但这场光刻期间的竞赛是场以十年计的马拉松。

ASML

凤凰网科技讯 3 月 16 日，经济学东说念主发文，ASML 的光刻期间正使其成为巨匠科技博弈的中枢。日本竞争敌手佳能押注于更苟简低价的期间，试图禁闭 ASML 的把持。但与软件行业蛊卦地位可能数月易主不同，光刻期间的竞赛是场以十年计的马拉松。要超越 ASML 绝非易事。这场博弈的焦点，是对将塑造改日策画、AI 乃至所有这个词科技走向的中枢开导的掌控权。

ASML 的顶端开导号称工程遗址。其职责旨趣是向真空室喷射 5 万滴熔融锡珠。每滴锡珠需资历两次激光冲击：第一次弱激光脉冲将其压扁为小型薄饼，第二次强激光将其汽化。这一过程使锡滴转机为高温等离子体，温度高达 22 万摄氏度（约为太阳名义温度的 40 倍），并放射极短波长的极紫外光（EUV）。随后，这种清明经多层超平滑镜面反射，聚焦于载有芯片电路蓝图的掩膜版，最终将联想图案蚀刻到涂有感光化学物资的硅晶圆上。

ASML 的开导对当代芯片制造不成或缺。台积电、三星和英特尔等巨头依赖其坐褥从 AI 加快器到智高东说念主机芯片的顶端惩处器。现在莫得其他公司能可靠制造用于 7 纳米及更先进制程的光刻机。即便在熟练工艺（14 纳米及以上）规模，该公司开导市占率也超越 90%。

固然 ASML 未泄露具体数字，但其最新 EUV 机型价钱确实是前代两倍。Hyper-NA 系统将更繁荣。尽管公司强调尚无量产保证，期间总监 Jos Benschop 合计若需求存在，Hyper-NA 开导可能在 5-10 年内面世。

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还是的行业霸主佳能匠心独具，押注纳米压印（NIL）期间。该工艺如同印刷机将电路模板奏凯压印至晶圆，表面上能以纳米级精度、低老本和小体积挑战 EUV。其经由包括电子束刻制母版、液态树脂滴注、紫外光固化等时势。佳能称其开导老本比 EUV 低 40%，但靠近时弊杀青（模板微粒会导致整片晶圆时弊）、层间瞄准精度（需纳米级对皆）、坐褥效果（现在每小时 110 片，仅为 EUV 的 60%）等挑战。

现在 NIL 在存储芯片和手机屏幕等规模获得了突破。佳能光学部门老成东说念主岩本和纪合计，NIL 可与 EUV 互补，在非精密关节镌汰老本。跟着期间向上，这种颠覆性工艺或催生更快、更节能的 AI 芯片。

（著算作作家孤独不雅点雨宫琴音快播，不代表艾瑞网态度）